ジェラニックR

対象排水 フッ素・ホウ素含有排水（プリント基板レジスト廃液、ソフトエッチング廃液） 主成分 希土類他
対象業種 半導体、ステンレス、ガラス加工、メッキ、産業廃棄物処理工場 あり姿 比重1.6液体
目的 低濃度までのフッ素除去、ホウ素の除去、プリント基板におけるレジスト廃液中の樹脂の除去、ソフトエッチング中の銅の除去 注入量目安 フッ素：0.01～1.0ml/l
ホウ素：0.5～10ml/l
プリント基板濃厚廃液：1.0～10ml/l

ジェラニックF1

対象排水 濃厚鉛、リン酸ニッケル等を中心とした難除去性重金属、重金属含有フッ素廃水 主成分 リン酸（＋アルギン酸ソーダ）、苛性ソーダ
対象業種 製錬所、ガラス加工、メッキ表面処理、自動車関連 あり姿 比重1.7液体
目的 鉛排水におけるキレート剤代替、ピロリン酸銅の安定的除去、弗酸ベースのフッ素の低濃度までの除去、自動車車体ボンデ排水処理等 注入量目安 0.1～0.5ml/l

ジェラニックFS

対象排水 難除去性重金属類の除去、プリント基板水洗排水、ソフトエッチング 主成分 カルシウム化合物（＋リン酸、鉄、アルギン酸ソーダ）
対象業種 プリント基板、メッキ表面処理、自動車関連 あり姿 比重1.25液体
目的 プリント基板排水の銅除去効果向上、銅スラッジ有償化、消石灰不使用による汚泥の減容 注入量目安 0.1～0.5ml/l

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