ジェラニックR

対象排水 |
フッ素・ホウ素含有排水(プリント基板レジスト廃液、ソフトエッチング廃液) |
主成分 |
希土類他 |
対象業種 |
半導体、ステンレス、ガラス加工、メッキ、産業廃棄物処理工場 |
あり姿 |
比重1.6液体 |
目的 |
低濃度までのフッ素除去、ホウ素の除去、プリント基板におけるレジスト廃液中の樹脂の除去、ソフトエッチング中の銅の除去 |
注入量目安 |
フッ素:0.01~1.0ml/l
ホウ素:0.5~10ml/l
プリント基板濃厚廃液:1.0~10ml/l |
ジェラニックF1

対象排水 |
濃厚鉛、リン酸ニッケル等を中心とした難除去性重金属、重金属含有フッ素廃水 |
主成分 |
リン酸(+アルギン酸ソーダ)、苛性ソーダ |
対象業種 |
製錬所、ガラス加工、メッキ表面処理、自動車関連 |
あり姿 |
比重1.7液体 |
目的 |
鉛排水におけるキレート剤代替、ピロリン酸銅の安定的除去、弗酸ベースのフッ素の低濃度までの除去、自動車車体ボンデ排水処理等 |
注入量目安 |
0.1~0.5ml/l |
ジェラニックFS

対象排水 |
難除去性重金属類の除去、プリント基板水洗排水、ソフトエッチング |
主成分 |
カルシウム化合物(+リン酸、鉄、アルギン酸ソーダ) |
対象業種 |
プリント基板、メッキ表面処理、自動車関連 |
あり姿 |
比重1.25液体 |
目的 |
プリント基板排水の銅除去効果向上、銅スラッジ有償化、消石灰不使用による汚泥の減容 |
注入量目安 |
0.1~0.5ml/l |
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